《GMP》對生產(chǎn)設(shè)備的要求    上海

     GMP對設(shè)備的要求除了設(shè)備的設(shè)計應符合生產(chǎn)工藝的要求外，zui重要的原則是設(shè)備應能防止交叉污染，設(shè)備本身不影響產(chǎn)品質(zhì)量，并便于清潔和維護，設(shè)備的設(shè)計和布局能使產(chǎn)生差錯的危險減至zui低限度。
1、生產(chǎn)設(shè)備應與所采用的工藝及生產(chǎn)的產(chǎn)品相適應，設(shè)備的性能技術(shù)指標符合設(shè)計標準，新設(shè)備安裝后應進行試車和必要的驗證。
2、設(shè)備的放置在潔凈室應有足夠的空間而不擁擠，不因設(shè)備放置的不合理而易于造成差錯的發(fā)生和不利于清潔維修。
3、生產(chǎn)無菌制劑的設(shè)備如大輸液、注射劑、凍干針劑等灌封設(shè)備本身具有層流凈化裝置，易于達到潔凈度要求，能在zui大程度上避免微生物及塵埃顆粒的污染。對于固體制劑中的片劑、膠囊劑、顆粒劑等生產(chǎn)過程中粉塵的處置和防止交叉污染是十分和困難的問題，除了盡可能使用密閉操作系統(tǒng)外，如粉碎、稱量、混合、過篩、烘干、整粒等制粒生產(chǎn)設(shè)備應合理的設(shè)計塵器過濾系統(tǒng)，既克服交叉污染又能zui大限度的減少投資和運行成本。
4、防止交叉污染的另一重要措施是設(shè)備應易清洗、某些部分能夠拆卸。設(shè)備的清洗是所有的GMP都作為重要的規(guī)定之一。設(shè)備清洗應制定包括清洗方法、清潔劑、消毒劑、清洗后的檢查、清洗周期等內(nèi)容的清潔規(guī)程。對于生產(chǎn)中所用的容器，使用后應立即清洗，也應制訂清潔規(guī)程，對設(shè)備的清洗應有記錄。
5、設(shè)備與其加工的產(chǎn)品直接接觸部位及設(shè)備的表面不應與產(chǎn)品發(fā)生化學反應、合成作用或吸附作用。
6、設(shè)備不應因密封套泄漏、潤滑油滴漏而造成產(chǎn)品的污染。
7、洗凈后的設(shè)備、應放于潔凈干燥的環(huán)境中，使用前應檢查是否已符合潔凈的要求。
8、用于生產(chǎn)和檢驗的儀器、儀表、量器、衡具等的適應范圍和精密度應有規(guī)定、定期校正并有記錄。
9、所有設(shè)備均有使用、清潔狀態(tài)標志標簽。
10、不合格或不使用的設(shè)備不放在生產(chǎn)區(qū)內(nèi)。
11、設(shè)備應有設(shè)備檔案及維修保養(yǎng)記錄，如有設(shè)備驗證還應有驗證記錄。